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直寫光刻技術
直寫光刻技術
直寫光刻技術最新資訊,投資界全方位播報直寫光刻技術相關話題,全面解讀直寫光刻技術投資、融資、并購等動態。
與EUV相比,這一光刻技術更具發展潛力
整個半導體行業所采用的光刻技術可以分為兩大類:掩膜光刻和直寫光刻(以LDI為主)。
制造芯片
EUV
直寫光刻技術
半導體產業縱橫
2023-06-25 10:32
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